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硅集成電路工藝基礎(第二版)
定 價:52 元
叢書名:21世紀微電子學專業(yè)規(guī)劃教材
作者:關旭東
出版時間:2014/5/1
ISBN:9787301241097
出 版 社:北京大學出版社
中圖法分類:
TN4
頁碼:408
紙張:膠版紙
版次:2
開本:16K
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內(nèi)容簡介
編輯推薦
作者介紹
目 錄
本書是《硅集成電路工藝基礎》的第二版教材,作者在第一版的基礎上系統(tǒng)的講述了硅集成電路制造的基礎工藝,加深了工藝物理基礎和基本原理的介紹。增加了工藝集成例子的介紹。
《硅集成電路工藝基礎(第二版)》非常值得推薦。
關旭東,北京大學信息學院微電子系 職稱:教授 研究方向:硅集成電路的設計和規(guī)劃 主要作品:硅集成電路工藝基礎。
第一章 硅晶體和非晶體
第二章 氧化
第三章 擴散
第四章 離子注入
第五章 物理氣相淀積
第六章 化學氣相淀積
第七章 外延
第八章 光刻工藝
第九章 金屬化與多層互聯(lián)
第十章 工藝集成
第十一章 薄膜晶體管制造工藝
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